Metal-organic precursors and chemical vapor deposition

Le procédé CVD (dépôt chimique en phase vapeur) est connu de longue date et largement utilisé en laboratoire. Le traitement de pièces thermiques sensibles requiert l’usage de précurseurs moins stables thermiquement que les molécules inorganiques traditionnelles~: les composés métalloorganiques. La structure moléculaire de ces composés (nature des ligands, des substituants, énergie de liaisons) est conçue suivant plusieurs critères et de manière à orienter ou favoriser la rupture sélective de certaines liaisons, ainsi que l’élimination des ligands indésirables. C’est cette démarche d’ingénierie moléculaire que cet article se propose d’illustrer à travers différents exemples.