Le comité de pilotage de la source de rayonnement Synchrotron SOLEIL et des partenaires industriels et scientifiques du Plateau de Saclay évaluent un projet d’implantation d’une ligne de lithographie profonde par rayons X durs issus de l’anneau. Ce projet a pour objectif de permettre la fabrication de micro-objets par le procédé LIGA X (Lithographie profonde par RX/ Electro-croissance/moulage).

Une démarche visant à recenser les besoins et attentes des acteurs du domaine des micro-nanosystèmes ainsi que les applications du domaine LIGA est actuellement menée.
Un questionnaire téléchargeable est mis à disposition sur le site du Synchrotron Soleil. Les résultats globaux de cette enquête seront présentés avant la fin de l’année 2005 dans le cadre d’une manifestation collective

Source : les Echos de la Recherche Française (GFP)